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上海曼戈斐光学技术有限公司曼戈斐光学中国区总代理德国NanoFocus,美国OPTEK

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共聚焦显微镜,Nanofocus多种传感器可进行层厚度检测--上海曼戈斐光学

发布于 2015年11月17日

[摘要]反复进行黄光微影、蚀刻及杂质扩散的工程,以制造半导体芯片的步骤及方法,NanoFocus可以对其进行形貌,高度,角度等测量。

反复进行黄光微影、蚀刻及杂质扩散的工程,以制造半导体芯片。

第一步、气相成长 

在完成镜面研磨的晶圆表面(单结晶硅基板)形成气相沉积层。 

Nanofocus多种传感器可进行层厚度检测。

第二步、选择性的掺杂物扩散 

运用类似照相技术的微影方法,可选择性地扩散掺杂物质而在部分区域制造想要的极性与杂质浓度。通过重复这个过程可制造所需求的半导体器件。 

第三步、蒸镀电极金属 

将铝、铜等蒸镀在晶圆表面形成电极及配线。

Nanofocus共聚焦显微镜可进行形貌,高度,角度等测量。

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上海曼戈斐光学技术有限公司主营产品:共聚焦显微镜,全自动影像仪,全自动晶元检测系统,太阳能表面检测系统,自动影像仪,激光扫描共聚焦显微镜,共聚焦显微镜,光学测量仪,便携式共聚焦显微镜,白光共聚焦显微镜,激光共聚焦显微镜,3D共聚焦显微镜,德国共聚焦。
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