共聚焦显微镜,三维均实现高精度（亚纳米）粗糙度测量，用于评定抛光效果

Si晶圆的表面抛光（研磨-精磨：Polishing）

如果想制造缺陷少的器件，需要将Si晶圆表面用机械或化学方法加以抛光成镜面，以去除表面的缺陷层。在此可使用nanofocus μsurf custom结合原子力探针实现对wafer表面上三维均实现高精度（亚纳米）粗糙度测量，用于评定抛光效果；同时可选用色散传感器完成对整个wafer的TTV，Flatness，Bow和Warp的测量。

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上海曼戈斐光学技术有限公司主营产品：共聚焦显微镜,全自动影像仪,全自动晶元检测系统,太阳能表面检测系统,自动影像仪,激光扫描共聚焦显微镜,共聚焦显微镜,光学测量仪,便携式共聚焦显微镜，白光共聚焦显微镜，激光共聚焦显微镜，3D共聚焦显微镜。
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