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昆山硅片回收公司与您一起了解硅片等离子体刻蚀

发布于 2013年07月02日

[摘要]昆山硅片回收公司与您一起了解等离子体刻蚀:等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性反应物而被去除。
昆山公司与您一起了解等离子体刻蚀:等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性反应物而被去除。 双手操作,戴好手套将夹好的待刻蚀片子的夹具平稳地放到刻蚀支座上。关闭好反应室的盖子,防止漏气。按"运行"键,等离子刻蚀机开始工作。机器运行期间,要注意检查气压,辉光功率和气体流量是否符合工艺要求。刻蚀完毕后,机器会发出蜂鸣响,提示完毕,按"运行"键,停止运行。打开反应室的盖子,戴好手套,双手操作,从反应室中小心取出片子。填写作业记录表和流程卡(品名、批号、数量、日期、姓名等),将片子送下一道工序。检测如果发现片子不合格,通知相关技术人员进行处理。
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