三大因素直接影响纳米真空镀膜的镀膜质量

发布于 2013年06月15日

[摘要]纳米真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的超高真空磁控溅射镀膜机的使用的一些注意事项。

技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的超高真空磁控溅射镀膜机的使用的一些注意事项。影响镀膜质量的因素:一般对镀膜的质量方面的要求有：均匀性、附着强度、厚度。厚度=沉积率×时间。其中沉积率是指单位时间内形成有效镀层的厚度，一般用μm/h表示。沉积率的大小除与起辉电压、工作气压等主要因素有关外，也受其他许多因素的影响。不同蒸发源在相同条件下的沉积率也是不同的，所以沉积率是有特定条件约束的，一般与理论值有较大差距，要通过大量试验来具体确定。
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