半导体清洗用超纯水设备工艺流程
任何设备中的整体工艺流程非常严谨，需要不同程序相互配合。半导体清洗用超纯水的水质也要有严格要求，原水经过南方泵的加压进入四级预处理装置，预处理能去除水中的铁锈、大颗料物质。最后经过双极反渗透装置可以进一步去除水中的杂质，最后经过微孔过滤器来对水进行深度处理使水达到用水要求。
半导体清洗用超纯水设备达到标准
关于超纯水设备的出水水质有很多标准，对于不同企业生产过程中所用到的纯水水质也有所不同。半导体行业要遵循我国电子工业的相关标准，并且还要达到一些国外的水质标准等。而且还能达到美国ASTM标准和德国、日本等标准，并且水质稳定不会造成二次污染。
半导体清洗用超纯水设备特点
电子技术的发展对于人们日常生活有很大的影响，其中最不可缺少的半导体领域越来越受到重视。半导体清洗用超纯水设备中的RO膜孔径小至纳米级，采用双级反渗透超过国家实验室一级用水标准。
半导体清洗用超纯水设备对于其主要产品的生产过程，起着非常重要的辅助作用。采用最新工艺结合我公司多年经验研发而成，可以无人看守占地面积小自动化程度高。设备的出水水质最高可达18.2兆，废水的回收率可以达到80%到90%以上。