[摘要]苏州广林达电子科技有限公司出品的F20 膜厚测量仪,可快速简便的测量透光薄膜的光学参数(n,k值),可在几秒内测量并分析薄膜的表层和底层的反射光谱得到膜厚,折射率参数。
出品的F20 ,可快速简便的测量透光薄膜的光学参数(n,k值),可在几秒内测量并分析薄膜的表层和底层的反射光谱得到膜厚,折射率参数。
软件以及USB接口可轻易的将仪器与Window系统的电脑连接。软件的数据库预存100种以上材料的基本信息，利用这些已存信息可以测量多层结构，用户还可以通过拟合测量将新材料的光学系数存入系统以备今后应用。
测量条件：
薄膜： 平整，半透明，吸光薄膜。例如：SiO2 SiNX DLC、光刻胶、多晶硅无定形硅，硅片；
基底层：平整，反射基底。如需测量光学系数，则需要平整镜面反射基底，如果基片是透光的，基片背面需要做反光处理。可用基底例如：硅片 玻璃 铝、GaAs 钢 聚碳酸脂、聚合物薄膜
仪器技术参数：
F20-UV F20 F20-NIR F20-ECR
仅厚度测量 30 Å to 20 μm 150 Å to 50 μm 1000 Å to 250 μm 150 Å to 250 μm
厚度以及n k 500 Å to 5 μm 1000 Å to 5 μm 3000 Å to 10 μm 1000 Å to 10 μm
波长范围 220-850 nm 400-1000 nm 950-1700 nm 400-1700 nm
准确度 > 0.4% or 10 Å
精确度 1 Å 2 Å 1 Å
稳定度 0.7 Å 1.2 Å 0.7 Å
光斑大小 500 μm ～ 1 cm
样品尺寸 直径1 mm～300 mm+
探测器 512-ÕóÁÐ Si 512-阵列 InGaAs 512-阵列 Si&
光源 钨卤光源
电脑 5 MB 硬盘要求 2 MB 内存 带 USB 口
电源 100-240 VAC, 50-60 Hz, 0.3-0.1 A. 本文摘自：***