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上海硅片回收公司告诉您硅片夹持方法的特点

发布于 2013年12月12日

[摘要]上海硅片回收公司告诉您目前在CMP加工中使用最广泛的硅片夹持方法是真空吸盘。真空吸盘顾名思义就是采用了真空原理,利用真空负压来“吸附”工件以达到夹持硅片的目的。

公司告诉您目前在CMP加工中使用最广泛的硅片夹持方法是真空吸盘。真空吸盘顾名思义就是采用了真空原理,利用真空负压来“吸附”工件以达到夹持硅片的目的。在抛光过程中,通过真空吸盘将工作压力作用在硅片表面,吸盘上的保持环保证硅片与吸盘之间不会产生相对运动。真空吸盘表面所使用的聚合物的粒度与吸力的关系。但是通过对加工后硅片表面形态的分析,沟槽式吸盘对硅片面型精度的影响比多孔陶瓷吸盘要大,鉴于未来大尺寸硅片加工精度的要求,这种吸盘还有待改进。
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