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不同工艺的汽车贴膜有何区别?

发布于 2020年04月30日

[摘要]现在给汽车贴膜成了一件平常事,可是你知道吗,因为制造工艺的区别,这汽车贴膜之间也大有不同。现在大师贴膜就市面上比较多见的两种工艺:真空镀膜法、磁控溅射法,与大家详细说说两者之间的区别。
   现在给成了一件平常事,可是你知道吗,因为制造工艺的区别,这汽车贴膜之间也大有不同。现在大师贴膜就市面上比较多见的两种工艺:真空镀膜法、磁控溅射法,与大家详细说说两者之间的区别。

   真空镀膜法是真空中以电阻加热镀膜材料,使它在极短的时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉积在基材表面上形成镀膜层。磁控溅射法是指电子在电场的作用下,加速飞向基片的过程中,与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。

  真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发源,还有支撑基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的真空度,镀膜材料的蒸发熟练地,蒸发距离和蒸发源的间距,以及基材表面状态和温度都是影响镀膜质量的因素。
   磁控溅射设备一般根据所采用的电源的不同又可分为直流溅射和射频溅射两种。直流磁控溅射的特点是在阳极基片和阴极靶之间加一个直流电压,阳离子在电场的作用下轰击靶材,它的溅射速率一般都比较大。但是直流溅射一般只能用于金属靶材,因为如果是绝缘体靶材,则由于阳粒子在靶表面积累,造成所谓的靶中毒,溅射率越来越低。
   磁控溅射法与真空镀膜法制造工艺相比,具有具有镀膜层与基材层的结合力强,镀膜层致密,均匀等优点。
   真空镀膜法因为需要将金属或者金属化合物蒸发化,为防止烧坏基材,所以温度一般较低,所以真空镀膜法一般适用于熔点较低的金属;磁控溅射法需要利用高压电场激发产生等离子体镀膜物质,适用于几乎所有高熔点金属,相对成本也较高。